原子層沉積（Atomic layer deposition）是將氣相前驅體脈沖交替通入反應器，化學吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的種方法，是種可以將物質以單原子膜形式層層鍍在襯底表面的方法，因此，它是種真正的“納米”技術，以精確控制方式實現納米的超薄薄膜沉積。三維原子層沉積系統ALD用飽和化學吸附的性，可以確保對大面積、多空、管狀、粉末或其他復雜形狀基體的高保形的均勻沉積。

NTI納米膠體/納米顆粒制備儀采用PWE（Pulsed Wire Evaporation脈沖金屬絲蒸發）技術，可以高效方便的制備大量納米顆粒。設備簡單便宜，運行成本低。而制備的納米膠體/顆粒質量高，產量大。

QuickPress活塞圓筒高壓裝置廣泛應用于高溫高壓實驗研究域，可進行有關地球科學、高壓物理、凝聚態物理、固體化學、材料科學等方面的研究。

德國Gero出品的高溫石墨爐/金屬爐/陶瓷爐，樣品腔大小1L到600L，可以為實驗室、小規模生產服務，適用于各種類型的熱處理工藝過程?？捎糜?x10-6mbar的高真空、保護氣氛及反應氣氛（氫氣等）。

德國Gero高溫箱式爐，為您提供30℃到3000℃溫度范圍，可實現退火、燒結、排膠、滲硅滲碳、原型速成等多種功能。