新代高性能激光浮區法單晶爐可廣泛用于凝聚態物理、化學、半導體、光學等多種學科域相關單晶材料制備，尤其適合高飽和蒸汽壓、高熔點材料及高熱導率材料等常規浮區法單晶爐難以勝任的單晶生長工作。