光學浮區法單晶爐——鍍金雙瓣對焦助力介電材料研究

    隨著信息、電子和電力工業的快速的發展，以低成本生產具有高介電常數損耗的材料成為當前關注的熱點，高介電常數材料無論實在電力工程，還是在微電子行業都具有十分重要的作用，研究高介電常數材料的結構與性能，對其介電機理、壓敏機理和晶界效應的探討具有深遠意義。

    (InNb)_0.1Ti₀.₉O₂陶瓷不僅具有高介電系數，同時具有較小的介電損耗，是種應用前景的巨介電材料。這種異的介電性質的產生機理尚處于研究階段，單晶樣品是分析材料本征性質的有武器。由于介電測試對于樣品尺寸的殊要求，為更真實地反應樣品的介電性質，獲得大尺寸、高質量的(InNb)₀.₁Ti_0.9O₂單晶變得尤為重要。

浮區法單晶爐鍍金雙瓣對焦

    哈爾濱工業大學宋永等人用光學浮區法，通過對生長條件(氣氛、氣壓、流量、生長速率)的控制，zui終獲得了大尺寸(4mm直徑、30mm長)的單晶樣品。該單晶樣品的制備使用的是Quantum Design公司推出的光學浮區法單晶爐。這款高性能單晶爐采用鍍金雙面鏡、高反射曲面設計，zui高溫度超過2000℃；系統采用冷卻節能設計（無需額外冷卻系統），穩定的電源輸出保證了燈絲的高精度恒定加熱功率，可制備高質量的單晶。

光學浮區法單晶爐  型號：IRF01-001-00

    浮區法的主要點是不需要坩堝，故加熱不受坩堝熔點限制，因此可以生長熔點*材料；生長出的晶體沿軸向有較小的組分不均勻性，在生長過程中容易觀察等。浮區法晶體生長過程中，熔區的穩定是靠表面張力與重力的平衡來保持，因此，材料要有較大的表面張力和較小的熔態密度，故浮區法對加熱技術和機械傳動裝置的要求都比較嚴格。

關于Quantum Design

Quantum Design是上的科研設備制造商和儀器分銷商，于1982年創建于美國加州圣迭戈。公司生產的 SQUID 磁學測量系統 (MPMS) 和材料綜合物理性質測量系統 (PPMS) 已經成為*的*測量平臺，廣泛的分布于上幾乎所有材料、物理、化學、納米等研究域的實驗室。2007年，Quantum Design并購了歐洲zui大的儀器分銷商LOT公司，現已成為的科學儀器域的跨國公司。目前公司擁有分布于英國、美國、法國、德國、巴西、印度，日本和中國等地區的數十個分公司和辦事處，業務遍及百多個國家和地區。中國地區是Quantum Design公司zui活躍的市場，公司在北京、上海和廣州設有分公司或辦事處。幾十年來，公司與中國的科研和教育域的合作有成效，為中國科研的進步提供了進的設備以及高質量的服務。