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                  脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統

                  脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統

                  簡要描述:脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(NEW)等由美國BlueWave生產,可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供電子束蒸發、熱蒸發、反應濺射、熱絲化學氣相沉積(HFCVD)、熱化學氣相沉積系統(TCVD)等設備。

                  產品型號: PLD

                  所屬分類:薄膜、顆粒、膠體等制備

                  更新時間:2023-04-25

                  廠商性質:生產廠家

                  詳情介紹
                  品牌其他品牌價格區間200萬-400萬
                  產地類別進口應用領域化工,電子,電氣,綜合
                  薄膜制備*

                   

                  BlueWave是家著名的美國半導體設備、材料生產商。BlueWave提供多種薄膜制備系統,包括脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸發、熱蒸發、反應濺射、熱絲化學氣相沉積(HFCVD)、熱化學氣相沉積系統(TCVD)。這些系統是理想的薄膜與涂層合成設備??芍苽涞谋∧ぐǖ?、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關系統配件,例如基片加熱裝置、原位監測工具。此外,BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層,例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。

                   

                  1、脈沖激光沉積系統

                   

                   

                  產品點:

                   

                  電拋光多空不銹鋼超高真空腔體

                  •可集成熱蒸發源或濺射源

                  •可旋轉的耐氧化基片加熱臺

                  •流量計或針閥準確控制氣體流量

                  •標準真空計

                  •干泵與渦輪真空泵

                  •可選配不銹鋼快速進樣室

                  •可選配基片-靶材距離自動控制系統

                  •是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的設備

                   

                  2、物理氣相沉積系統(Physical Vapor Deposition Plus)

                   

                  產品點
                  超高真空不銹鋼腔體

                  電子束、熱蒸發、脈沖激光沉積可集成

                  立襯底加熱,可旋轉

                  多量程氣體流量控制器

                  標準氣壓計

                  機械、分子、冷凝真空泵
                  可選不銹鋼快速進樣室

                  襯底和源距離可控

                  可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

                   

                  3、熱化學氣相沉積系統(TCVD)

                   

                   

                  •高溫石英管反應器設計

                  •溫度范圍:室溫到1100度

                  •多路氣體準確控制

                  •標準氣壓計

                  •易于操作

                   

                   

                   

                   

                  •可配機械泵實現低壓TCVD

                  •可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

                  •液體前驅體噴頭

                  •2英寸超大*溫度均勻區

                   

                  4、熱絲化學氣相沉積系統(HFCVD)

                   

                  產品點:

                  •水冷不銹鋼超高真空腔

                  •熱絲易安裝、更換 

                  •4個不同量程氣體控制器

                  •標準氣壓計

                  •襯底與熱絲距離可調節

                  •2英寸襯底加熱、可旋轉 

                  •*制備金剛石和石墨烯 

                   

                  新產品?上線網頁更新中,垂詢了解更多詳情!



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