zeroK Nanotech推出的基于低溫銫離子源（Cs+ LoTIS）的新代高精度低溫銫離子源FIB系統——FIB: ZERO（Cs+ LoTIS）和相應的離子源升配件——FIB：RETRO，采用的低溫技術可以減少離子束中的隨機運動，從而使FIB：ZERO中的離子束斑與傳統離子源產生的束斑相比具有更高的亮度，更小的尺寸和更低的能量散失。同時，還可以產生更多的二次離子，獲得更清晰的成像。

激光加熱基座晶體生長爐（LHPG）具有無坩堝、無污染、溫度梯度大、生長速度快、適合生長高熔點的高質量晶體等*勢。

微波等離子化學氣相沉積技術（MPCVD）制造的微波等離子化學氣相沉積系統, 通過等離子增加前驅體的反應速率，降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量硬質薄膜和晶體。

多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的款高精度的磁控濺射噴金儀。

臺式精準氣氛\壓力控制高溫退火系統ANNEAL可用于二維材料以及襯底、樣品在定氛圍中的高精度熱處理，也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。