時間分辨精細陰熒光分析系統

SEM-CL時間分辨精細陰熒光分析系統是由瑞士attolight公司設計并制造的，它是：

•實現定量測量的陰熒光分析系統 SEM-CL
• 300um直徑的視場

• 于10nm的空間分辨率

• 10ps的時間分辨率

• Schottky場發射槍（連續系統）和皮秒脈沖光電槍（時間分辨模式）

• 樣品溫度范圍：20K-300K，位移精度1nm

高性能光學與SEM系統：
簡單易用，大視野，高分辨

Attolight SEM-CL系統自帶有集成了光鏡的掃描電子顯微鏡（10nm空間分辨率）。光鏡被嵌入在掃描電鏡的電子物鏡，使兩者的視場相互匹配。獲取陰熒光圖從未如此簡單：無需調準光路，光鏡的存在幫助完成了樣品定位。系統經過化，在不犧牲掃描電鏡性能的同時獲得了越的陰熒光性能。它提供了個合適的光學光圈 (f/0.5)，和在整個視場范圍內恒定的高光子收集效率。同時，它工作在低電子束的能量范圍內 (3-10kV)，可獲得更高分辨的陰熒光圖。

Schottky場發射電子槍和皮秒脈沖光電子槍：

連續工作模式和時間分辨工作模式

電子槍類型是決定電鏡性能的重要參數。attolight SEM-CL采用殊設計的肖基（Schottky）場發射電子槍，提供高亮度高相干的電子束，在樣品上產生的熒光空間分辨率好于10nm。

Attolight SEM-CL系統還是個具有時間分辨選項的陰熒光分析系統，可實現的10ps的時間分辨率。時間分辨的陰熒光分析系統將是研究光電材料載流子動力學和壽命的*工具。

時間和光譜分辨的氮化硼陰熒光

ZnO納米線上不同區域的熒光壽命研究 納米結構在不同波長下的熒光發射區域變化

定量測量陰熒光發光

Attolight SEM-CL系統是能實現定量測量不同樣品的陰熒光發光的系統。受益于*的設計，它能夠甄別并發現超痕量雜質，以及某些在其他成像模式下不可見的晶體缺陷的能力，為研究及開發半導體材料、熒光粉、陶瓷、巖石和玻璃提供了新的可能。

GaN表面TD觀測

太陽能板表面TiO2納米顆粒觀測

工作模式：

– 光學顯微鏡成像
– 陰熒光測繪（多色，單色和高光譜）
– 二次電子測繪
– 時間分辨陰熒光（時間分辨選項）
– 二次電子和陰熒光同步測繪

– LED的性能和可靠性
– GaN功率晶體管
– 線位錯密度(TDD)
– 載流子壽命和動力學
– 太陽能電池的效率
– 納米尺度光電器件的研發

應用案例：

ZnO納米線-陰熒光光譜分析

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光伏材料 - 陰熒光光譜測量