脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統（NEW）等由美國BlueWave生產，可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供電子束蒸發、熱蒸發、反應濺射、熱絲化學氣相沉積（HFCVD）、熱化學氣相沉積系統（TCVD）等設備。

薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術現已被廣泛應用于半導體、光電、太陽能等域的研發以及成產當中，這些技術包括： 等離子體增強化學氣相沉積反應器（PECVD Reactors） 脈沖激光沉積系統（Pulsed Laser Deposition） 磁控濺射系統（Sputter Deposition System） 電子束沉積系統（E-beam Deposition System）

NTI納米膠體/納米顆粒制備儀采用PWE（Pulsed Wire Evaporation脈沖金屬絲蒸發）技術，可以高效方便的制備大量納米顆粒。設備簡單便宜，運行成本低。而制備的納米膠體/顆粒質量高，產量大。